चीनमधील हायड्रोफ्लूरिक acid सिड क्लीनिंगसाठी प्रथम मास उत्पादन उपकरणे यशस्वीरित्या पॅनेल फॅक्टरीत हलविण्यात आली

हायड्रोफ्लूरिक acid सिड क्लीनिंग हा प्रदर्शन प्रक्रियेतील एक महत्त्वाचा दुवा आहे. त्याचा साफसफाईचा प्रभाव थेट डिव्हाइस संरचनेच्या अंतिम कार्यक्षमतेवर, कार्यक्षमता आणि स्थिरतेवर परिणाम करतो आणि अंतिम उत्पादनाच्या उत्पन्नाच्या दराशी संबंधित आहे. हायड्रोफ्लोरिक acid सिड क्लीनिंग केवळ सक्रिय थराच्या पृष्ठभागावर अशुद्धी काढून टाकत नाही तर पृष्ठभाग देखील पॅसिव्हेट करते, ज्यामुळे इंटरफेसच्या अशुद्धीची शोषण क्षमता कमी होते. पृष्ठभागाच्या स्वच्छतेची आवश्यकता अतिशय कठोर आहे आणि सैद्धांतिकदृष्ट्या कोणत्याही कण, धातूचे आयन किंवा सेंद्रिय चिकटपणाची उपस्थिती परवानगी देत ​​नाही. संलग्न, पाण्याची वाफ आणि ऑक्साईड थर पृष्ठभागावर अणु-स्तरीय सपाटपणा आवश्यक आहे जेणेकरून प्रक्रिया पोस्ट प्रक्रियेची प्रक्रिया विश्वसनीयता सुनिश्चित करा.